中国导弹有救了!我国新一代超分辨光刻机通过验收

时间:2019-03-03 18:43:08 来源: 杏耀娱乐平台 作者:匿名


似乎有些网民了解这些错误。简单地说,ASML光刻机的应用范围相对简单,只能用于芯片雕刻。中国新一代超分辨率光刻机具有广泛的应用范围,可以广泛应用。它可以用于各种超精密纳米级工艺,也就是说不仅用于芯片雕刻,而且用于纳米功能器件加工的超分辨率光刻设备的各个领域。

鉴于很多人对中国新闻稿的特点了解不多,或者理解它不够深入和全面,我不会对本新闻稿的原文进行粗略的解释。如果有任何不当行为,请纠正我。

现在附上科学网的原文

中国新一代超分辨率光刻机通过验收

作为集成电路行业最关键的基础设备之一,光刻机在中国具有巨大的市场潜力,但高端光刻设备已被国外垄断。国产光刻机的发展一直是中国微加工领域。几代科学家的“最大梦想”。

11月29日,中国科学家迈出了实现梦想的关键一步。中国科学院光电技术研究所(以下简称光电子研究所)承担的国家重大科研仪器开发项目“超分辨率光刻设备的开发”通过了验收测试,这是世界上第一个超级 - 使用紫外光分辨率为22nm的分辨率光。雕刻设备为纳米光学加工提供了新的解决方案。

突破分辨率衍射极限

《科学》该杂志提出了本世纪最具挑战性的科学问题中的125个,其中第40个涉及能够在衍射极限方面取得突破以创造完美的光学镜片。

作为主流光学制造技术,光刻技术由于衍射极限的限制已成为光刻技术发展的主要技术瓶颈,同时光学光刻设备的成本极高。另一种类型的电子束和离子束直接写入技术虽然分辨率可以达到10nm的量级,但是效率极低并且难以在大规模生产装置中使用。

面对这一全球性问题,光电子公司率先实现了突破。光电子研究所所长罗向刚告诉记者:“2003年,光电子学是世界上第一个发现异常双缝干涉现象的人,发现子光子中存在超结构表面波。 - 波长结构,其等效波长可以调制到软X射线标尺提供了一种新的原理方法和直接的方法来打破衍射极限。“对于这种超分辨率光刻技术的提议,中国科学院院士周光召曾评论说:“这些成就是整个连锁创新的典范,它将基础理论与工程应用紧密结合在一起。中国的工作具有原创性,可以带来国际领先地位。“

在光电子研究所的努力下,中国光刻机的发展延伸了减小波长和增加数值孔径的旧方法,以提高分辨率。它为22nm甚至10nm光刻节点的突破提供了新技术,并为超高分辨率提供了新技术。光刻设备提供了理论依据。

验收专家组说:“该项目原则上打破了分辨率衍射极限,建立了新的高分辨率,大面积纳米光刻设备研发路线,绕过了国外高分辨率光刻设备技术的知识产权壁垒,实现中国。创新技术源,开发出具有自主知识产权和独立技术控制的超分辨率光刻设备。该设备是世界上第一台高分辨率超分辨率光刻设备。

开辟“新”光刻技术和设备

为什么这种光刻设备使用新的原理和技术?光电子研究所研究员,该项目副总设计师胡松告诉记者,采用传统技术的光刻机不仅受到知识产权的保护,而且还存在很多技术障碍。在没有国外成熟经验的情况下,项目成员希望开辟一条新路。

2012年,光电子公司承担了国家重大科研设备——超分辨率光刻设备项目。经过近7年的努力,项目团队突破了高均匀度照明,超分辨率光刻镜头,纳米级分辨率聚焦和间隙测量,超精密,多自由度工件台和控制以及其他关键技术完成设备开发。 。

该设备使用365nm波长光源,每次曝光的最大线宽分辨率为22nm。在这方面,胡松做了一个类比:“这相当于用一把很厚的刀来雕刻一条非常细的线条。”

回顾7年的抢救时刻,胡松告诉记者,一开始,一些项目成员“不相信这种设备可以制造”。然而,随着项目团队取得50nm,45nm,32nm超分辨率成像光刻技术的成果,每个人的信心都越来越坚定。

“我最激动人心的时刻是去年7月和8月,当时我们进行了10nm×10nm的多次曝光,这意味着技术逐渐成熟。”胡松说。在此基础上,项目团队结合项目开发的高纵横比蚀刻和多图案技术,实现了10nm以下特征尺寸图形的处理。目前,该项目已获得47项国内发明专利和4项国外发明专利,并拥有完全自主知识产权。

解决工业应用问题

在目前的集成电路生产线中,193nm深紫外光刻机和EUV远紫外光刻机在国内处于封锁状态,这种超分辨率光刻设备解决了紫外光刻机的机理,设备和工艺问题。 “这使中国能够突破高端光刻技术的封锁,并逐步实现工业化,从0到1跃升。”胡松说。

现在微纳米光刻技术是现代先进制造业的重要方向,是信息和材料等许多领域的核心技术。与此同时,光学超材料,变换光学等的出现,迫切需要开发专门的微纳制造工具。

针对实际应用需求,项目组通过技术的扩展,解决了各种微纳功能材料和器件的加工问题,实现了相关器件的制造。

例如,在生化传感器芯片中,通过超分辨率光刻设备制备的纳米传感器可以实现对目标分子的高灵敏度检测,避免检测过程中的接触污染,并实现早期癌症诊断技术的突破。

验收专家表示,超分辨率光刻设备被中国科学院上海电子科技大学上海微系统与信息技术研究所航天科技集团第八研究所项目组用于西部中国四川大学第二医院,重庆大学等单位。一系列纳米功能器件,包括大口径薄膜反射镜,超导纳米线单光子探测器,切伦科夫辐射器件,生化传感器芯片和超表面成像器件,已经验证了超分辨率纳米功能器件的加工光刻设备。能力已达到实用水平。

验收专家一致认为:“该设备已经形成了一种全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主的知识产权,并且是超材料/超表面,第三代光学器件和通用芯片等变革战略领域的跨越。开发提供制造工具。“

原文如上(网站未按有关规定发布)作者认为:

本报告第一段获得了中国科学院光电技术研究所(以下简称光电子研究所)承担的“国家重大科研设备开发项目”超分辨率光刻设备开发“。这是世界上第一台采用紫外光达到22nm分辨率的超分辨率光刻设备,为纳米光学处理提供了新的解决方案。要点是三个关键问题。

1中国新一代超分辨率光刻机通过国家验收

这一点非常重要,因为新一代超分辨率光刻机的第一份报告是在2015年进行原型设计,但原型的工作状态,产品的质量和可靠性达到了设计和商业应用的全部状态。这需要通过使用时间和设备来验证。经过三年多的使用和验证,它已达到设计指标。现已通过国家核查,该设备将投入商业生产和大规模工业应用。

2光刻机的投产标志着中国打破了高端光刻设备被国外垄断的局面。

3据指出,这是世界上第一台利用紫外光实现22nm分辨率的超分辨率光刻设备,为纳米光学处理提供了新的解决方案,这意味着新的光刻机的独立发展路径已经出现。

第二段讨论了从突破分辨率衍射极限到设备是世界上第一个分辨率最高的超分辨率光刻设备这三个问题。

1光刻机所需的光学基础理论创新

2跳出了最初的光刻技术发展理论和旧的制造方式

3光刻机具有完全独立的产权,实现了低成本,高效率的制造路线。

第三段讨论了从“新”光刻技术和设备的发展到跨越式发展的五个问题。

1过去光刻机的发展涉及许多外国技术专利,这很难

2光电子学克服了各种困难,解决了光刻机三大技术瓶颈的制约因素,即光源利用的基本理论和

制造和使用光刻机镜头和光刻机台的核心问题

3光刻机在应用过程中变得越来越成熟,可以进入商业生产和工业生产的水平。4光刻机具有广泛的应用前景和良好的应用前景。

5生产后,光刻机在一系列纳米功能器件的制造中发挥了巨大作用。达到了设计标准,验证了超分辨率光刻设备中纳米功能器件的加工能力,达到了实用水平。

在最后一次重新调整结束时,验收专家一致认为:“该设备已形成全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主的知识产权,为超级材料/超表面,第三代光学变革战略领域的跨越式发展提供了制造工具。“指出了光刻机的战略意义。

更重要的是,该项目副总设计师,中国科学院光电技术研究所研究员胡松在接受采访时表示,目前的应用前景仅限于光栅和光子晶体等周期性结构。当然,这些设备本身非常重要(特别是军事应用)。

这意味着中国的各种军事装备,特别是各种类型的包括洲际弹道导弹和各种类型的巡航导弹,以及各种战机和大量需要筹码的武器装备,将用于赶上世界的中国先进的军事核心。太棒了!

作者NJ530408